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頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨，頭孢地嗪鈉，混懸液膠體磨膠體磨
詳細(xì)信息品牌：IKN 型號(hào)：CMD2000 工作方式：顆粒研磨機(jī) 類型：轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī) 適用物料：乳化液，懸浮液 應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)藥，化工，食品 加工批量：100 驅(qū)動(dòng)功率：2.2 kw 研磨籃容量：2 L 介質(zhì)尺寸：0.2 mm 行程：2000 mm 外形尺寸：500*230 m 重量：230 行程：2000 mm 外形尺寸：500*230 m 頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨，頭孢地嗪鈉，混懸液膠體磨膠體磨是使物料被有效地乳化、分散和粉碎上海依肯機(jī)械設(shè)備
頭孢地嗪鈉為半合成第三代頭孢霉素，對革蘭陽性菌、陰性菌均有抗菌活性，對β內(nèi)酰胺酶穩(wěn)定，對頭孢菌素酶和青霉素酶極穩(wěn)定。臨床主要用于鏈球菌屬、肺炎球菌等敏感菌所致的肺炎、支氣管炎、咽喉炎、扁桃體炎、腎盂腎炎、尿路感染、淋菌性尿道炎、膽囊炎、膽管炎、婦科感染、敗血癥及中耳炎等。
頭孢地嗪鈉混懸液膠體磨的粉碎效果
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
3 物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
4 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
頭孢頭孢地嗪鈉混懸
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。磨分散機(jī) 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接 類型 l/h rpm m/s kW CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15 CMD 2000/5 3000 6,000 23 7.5 DN40/DN32 CMD 2000/10 8000 4,200 23 22 DN80/DN65 CMD 2000/20 20000 2,850 23 37 DN80/DN65 CMD 2000/30 40000 1,420 23 55 DN150/DN125 CMD2000/50 120000 1,100 23 110 DN200/DN150 *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。
頭孢混懸液膠體磨的特點(diǎn)
· 結(jié)合優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量
· 定制不同的研磨刀頭，實(shí)現(xiàn)多種研磨剪切速率
· 為減少顆粒大小的控制，可無限調(diào)整定子/轉(zhuǎn)子之間的間隙設(shè)置
· IKN膠體磨CM與生產(chǎn)系統(tǒng)的密實(shí)度作為機(jī)器聯(lián)機(jī)設(shè)計(jì)的結(jié)果。
· 適合于粘度高達(dá)50,000 mPas的各種粘度范圍的物料
· 能在高達(dá)16 bar的壓力下操作
· 容易擴(kuò)大規(guī)模生產(chǎn)，從實(shí)驗(yàn)室機(jī)器CM開發(fā)到生產(chǎn)機(jī)器CM
· 所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼
· 具有耐磨材料的高性能機(jī)械密封密封
· 高質(zhì)量的表面處理，便于清洗
· 可根據(jù)要求提供其他材料和表面處理
· 機(jī)器可自動(dòng)排水， 具有CIP和SIP功能
· 噪音低
· 根據(jù)符合EHEDG（歐洲衛(wèi)生工程設(shè)計(jì)集團(tuán)）準(zhǔn)則制造
· 符合3A衛(wèi)生和認(rèn)證
頭孢混懸液膠體磨上海依肯機(jī)械設(shè)備
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