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無機(jī)鹽研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)

產(chǎn)品型號：

CMD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥118900.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-12-16

詳細(xì)信息

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品牌：IKN	型號：CMD2000	工作方式：顆粒研磨機(jī)
類型：轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)	適用物料：乳化液，懸浮液	應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)藥，食品
加工批量：100	驅(qū)動功率：2.2 kw	研磨籃容量：2 L
介質(zhì)尺寸：0.2 mm	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m
重量：230	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m

無機(jī)鹽研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，高剪切納米研磨分散機(jī)，德國進(jìn)口分散機(jī)，實(shí)驗(yàn)室分散機(jī)請電話聯(lián)系上海依肯機(jī)械設(shè)備：朱經(jīng)理（微信QQ同號）

無機(jī)鹽研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)：鋇鹽溶液通常用于食品和醫(yī)藥添加劑，要求細(xì)度在10μm作用，自然界中的鋇鹽顆粒一般較大，經(jīng)過機(jī)器設(shè)備研磨和分散以后，一般無機(jī)鹽顆粒保持在20μm左右，普通砂磨機(jī)和研磨機(jī)都無法做到更細(xì)。為了將這種無機(jī)鹽顆粒研磨至10微米左右并進(jìn)行有效的分散，需要用到高剪切研磨分散機(jī)CMD2000系列。將初始顆粒20μm的無機(jī)鹽溶液導(dǎo)入研磨分散機(jī)，研磨十五分鐘左右，進(jìn)行檢測，D99＜10μm，D80＜5μm。

無機(jī)鹽研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)CMD2000系列特點(diǎn)：
IKN研磨分散機(jī)是上海機(jī)械設(shè)備公司和德國IKN工程師合作研發(fā)的一款高科技產(chǎn)品，由膠體磨、分散機(jī)組合而成；是一款將研磨和分散兩種功能結(jié)合的完美的流體設(shè)備。
1.線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力非常強(qiáng)烈，通常所說的超細(xì)濕磨
2.定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4.在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5.高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
6.具體設(shè)備咨詢：朱經(jīng)理 021-33506885-809

CMD2000系列無機(jī)鹽研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。，公司有樣機(jī)提供實(shí)驗(yàn)。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。

CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求，三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,*小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

膠體磨	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CM 2000/4	700	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CM 2000/5	3,000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CM 2000/10	8,000	4,200	23	22	DN50/DN50
CM 2000/20	20,000	2,850	23	37	DN80/DN65
CM 2000/30	40,000	1,420	23	55	DN150/DN125
CM 2000/50	80,000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產(chǎn)品的要求。
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