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碳納米管研磨分散機，高剪切研磨分散機
詳細信息| 詢價留言品牌：IKN 型號：CMD2000 工作方式：顆粒研磨機 類型：轉軸式研磨機 適用物料：乳化液，懸浮液 應用領域：醫(yī)藥，食品，化工 加工批量：100 驅動功率：2.2 kw 研磨籃容量：2 L 介質尺寸：0.2 mm 行程：2000 mm 外形尺寸：500*230 m 重量：230 行程：2000 mm 外形尺寸：500*230 m 碳納米管研磨分散機，高剪切研磨分散機，高剪切乳化分散機，研磨分散機，在線式碳納米管研磨分散機，管線式碳納米管研磨分散機，進口研磨分散機，實驗室研磨分散機請電話聯(lián)系上海依肯機械設備：朱經理 （微信QQ同號）
碳納米管研磨分散機轉速*高可達14000rpm，定轉子間隙0.2-0.3mm，線速度達到4m/s，剪切速率特別高，研磨分散效果極佳！
碳納米管分散在聚氨酯中，物料粘度太大，不易流動，溫度控制嚴格，研磨細度要求高，這是分散工程中的難點。
上海IKN工程師推薦使用IKN的研磨分散機設備CMD2000系列研磨分散機，自上市以來，受到眾多客戶的歡迎，獨特的工作頭設計，可以達到研磨、分散、乳化、均質一步到位的高要求。
CMD2000系列研磨分散機工作腔采用夾套設計，可加熱或者冷卻（不與物料接觸）。 CMD2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到*低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
此次與武漢某工程大學以及哈爾濱某大學的實驗更是充分證明了CMD2000系列研磨分散機在碳納米管改性聚氨酯這一研究上取得的成功。
膠體磨CMD2000系列特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，CMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CMD2000整機采用*佳幾何機構的研磨定轉子，*好的表面處理和優(yōu)質材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
碳納米管研磨分散機運行原理（高剪切研磨分散機，高剪切乳化分散機，研磨分散機）：碳納米管研磨分散機在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的*小細度可達0.5um。碳納米管研磨分散機CMD2000系列的特點：
①定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
碳納米管研磨分散機CMD2000系列設備選型表：
注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%型號 流量
L/H輸出轉速
rpm線速度
m/s馬達功率
KW出/入口連接 CMD2000/4 700 9，000 23 2.2 DN25/DN15 CMD2000/5 3，000 6，000 23 7.5 DN40/DN32 CMD2000/10 8，000 4，200 23 15 DN50/DN50 CMD2000/20 20，000 2，850 23 37 DN80/DN65 CMD2000/30 40，000 1，420 23 55 DN150/DN125 CMD2000/50 80，000 1，100 23 110 DN200/DN150
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