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軟膠囊高剪切膠體磨,軟膠囊進口膠體磨
詳細信息| 詢價留言品牌：IKN 型號：CMD2000 工作方式：顆粒研磨機 類型：轉軸式研磨機 適用物料：乳化液，懸浮液 應用領域：醫(yī)藥，食品 加工批量：100 驅動功率：2.2 kw 研磨籃容量：2 L 介質尺寸：0.2 mm 行程：2000 mm 外形尺寸：500*230 m 重量：230 行程：2000 mm 外形尺寸：500*230 m 軟膠囊生產設備，軟膠囊高剪切膠體磨，軟膠囊進口膠體磨，軟膠囊高剪切乳化機，軟膠囊高剪切均質機，軟膠囊內容物膠體磨，軟膠囊內容物研磨分散機，膠囊膠體磨，改良型膠體磨，醫(yī)藥乳液膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨，進口膠體磨，進口高剪切膠體磨，進口膠囊膠體磨，多功能高剪切膠體磨，醫(yī)藥混懸液多功能膠體磨咨詢熱線： （微信QQ同號）
此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉速高達14000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎上加入了一組分散盤，先研磨后分散，物料粒徑更細，更穩(wěn)定！
軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴密、用量精確、生物利用度高，藥物的穩(wěn)定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明，口服制劑的生物利用度，以內容物為溶液的軟膠囊，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，***差為片劑。
近年來，超微粉碎技術逐漸應用到軟膠囊領域，通過研究發(fā)現(xiàn)，藥材經過超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質度明顯改善，這些細粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當中，質量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展，對于膠囊的內容物的處理，出現(xiàn)的大量的設備，如：膠體磨、均質機、分散機等。這些設備通過對內容物的剪切，從內容物粒徑更加細化，粉末分散更加均勻。而上海依肯應對這種情況，研發(fā)出了的設備，改良性膠體磨，該膠體磨結合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點，將二者一體，形成的設備，我們也將它定義為“研磨分散機”。
IKN改良型膠體磨，IKN研磨分散機，對于軟膠囊的生產有著巨大的優(yōu)勢，對于軟膠囊內容物的處理十分有效，無論內容物是乳液還是混懸液，都可以將物料充分的細化，提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭，IKN改良型膠體磨，研磨分散機，有一級膠體磨頭和一級分散盤，對物料先研磨后分散機，再配合14000rpm的轉速，乳液粒徑一般可細化至1-2微米，混懸液一般可細化至3-5微米，當然這也要根據(jù)具體的物料性質和工藝來定。
CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
1 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產品。
級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列軟膠囊內容物研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接 類型 l/h rpm m/s kW CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15 CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32 CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65 CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65 CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125 CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150 *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到***大允許量的10%。
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