鈦白粉的分散及鈦白粉高速研磨分散機(jī),鈦白粉高速分散機(jī)，鈦白粉砂磨機(jī)由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
鈦白粉是目前工業(yè)領(lǐng)域中*好的白色顏料，被廣泛應(yīng)用于料、塑料、橡膠、紙張、陶瓷、化妝品與紡織工業(yè)。其中金紅石型鈦白較銳鈦型鈦白具有更高的耐候性，但金紅石型鈦白表面仍然存在光活性缺陷，為了提高鈦白的成品質(zhì)量，必須進(jìn)行表面包膜處理，包膜前要求TiO2顆粒具有良好的分散性，所以必須進(jìn)行打漿分散，提高其分散性。打漿分散工序作為表面處理的前序工作，它的地位是至關(guān)重要的，如何使打漿料漿具備更好的分散性和穩(wěn)定性對(duì)獲得符合要求的TiO2顆粒分散性具有重要意義。

，在后處理生產(chǎn)工藝中，分散粗顆粒和包膜采用的都是濕法處理過(guò)程，在此過(guò)程中，鈦白粉在介質(zhì)中的分散很重要，分散不良會(huì)使細(xì)微顆粒凝聚成粗顆粒，并會(huì)造成包膜時(shí)顆粒表面涂膜不均，甚至有些顆粒涂膜不到，達(dá)不到包膜作用。打漿分散的主要目的就是為后續(xù)工作提供充分分散的二氧化鈦穩(wěn)定分散體。

 

機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域： 化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。           食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉 ，豆粕酶解等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。 醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚(yú)肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動(dòng)物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。 建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤(rùn)滑油等等

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

漿液濃度：常用的固液比為TiO2：H：0=1：4—1：6。漿液濃度過(guò)濃會(huì)使分散效果下降，濃度過(guò)稀會(huì)使生產(chǎn)效率降低。在生產(chǎn)中TiO 的濃度一般保持在600 g／l～800g／l，過(guò)稀在生產(chǎn)中無(wú)任何經(jīng)濟(jì)效益，過(guò)濃則漿液在攪拌過(guò)程中，TiO 粒子容易絮凝，影響分散效果，且在后序工作中由于砂磨不易進(jìn)行，會(huì)造成水、電等必要的經(jīng)濟(jì)浪費(fèi)。
3．?dāng)嚢鑿?qiáng)度：打漿分散時(shí)要有良好的攪拌幫助分散，據(jù)研究，攪拌的線速度在186m／min的情況下*好。線速度過(guò)快，被分散的TiO：離子因碰撞過(guò)于劇烈而重新絮凝，線速度過(guò)慢則漿液中絮凝的粒子不能擺脫粒子問(wèn)的范德華力，不能在漿液中得到良好分散。

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