頭孢噻吩鈉、頭孢氨芐、頭孢羥氨芐、頭孢唑啉、頭孢拉啶、頭孢硫脒、頭孢克羅、頭孢噻啶、頭孢來星、頭孢乙腈、頭孢匹林、頭孢替唑。

第二代：

頭孢呋辛鈉、頭孢呋辛酯、頭孢孟多、頭孢克洛、頭孢替安、頭孢美唑、頭孢西丁、頭孢丙烯、頭孢尼西、頭孢雷特。

第三代：

頭孢噻肟鈉、頭孢哌酮、頭孢他啶、頭孢曲松、頭孢唑肟、頭孢甲肟、頭孢匹胺、頭孢替坦、頭孢克肟、頭孢泊肟酯、頭孢他美酯、頭孢地秦、頭孢噻騰、頭孢地尼、頭孢特侖、頭孢拉奈、拉氧頭孢、頭孢布烯、頭孢米諾、頭孢羅齊。

第四代：

頭孢吡肟、頭孢匹羅、頭孢唑喃。

混懸劑的質量要求是：藥物本身化學性質應穩(wěn)定，有效期內藥物含量符合要求；混懸微粒細微均勻，微粒大小應符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90，沉降后不結塊，輕搖后應能迅速分散；混懸劑的粘度應適宜，傾倒時不沾瓶壁；外用混懸劑應易于涂布，不易流散；不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質現(xiàn)象；標簽上應注明“用前搖勻”。

CMS2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
超高速膠體磨材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速膠體磨選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
超高速膠體磨表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

在線式高速膠體磨優(yōu)點

1  CMS2000系列作為一個用于混合分散粉碎工藝的設備,其具有連續(xù)式性操作,因此也被稱作連續(xù)式超高速粉碎機,能夠更好滿足大批量連續(xù)化生產(chǎn)作業(yè)要求.

1分散乳化粉碎效率高:批次乳化機在進行乳化前往往需要預攪拌,在其基礎上才能實現(xiàn)較好的分散乳化混合效果.因此所需要時間更多,產(chǎn)量更小.適用于不連續(xù)生產(chǎn)或者產(chǎn)量較小的生產(chǎn).而連續(xù)式膠體磨機可以直接進行投料,更短時間能夠實現(xiàn)混合分散的顆粒經(jīng)的要求.產(chǎn)量大效率高,適用于連續(xù)式生產(chǎn),產(chǎn)量更大的情況.

2分散效粉碎果好：其他粉碎設備在罐體內，物料與粉碎頭較松散，工作時依靠強大的吸力使物料進入分散頭中，不能實現(xiàn)足夠小的顆粒經(jīng)要求。而連續(xù)式乳化機由于乳化腔體內部設計足夠小，膠體磨頭與物料緊密接觸，剪切充分，同時膠體磨腔體設計成多層轉定子咬合結構，優(yōu)化粗齒結構，可以滿足混合乳化粉碎的顆粒經(jīng)分布較窄，效率更高

3 技術功能指標更高：CMS2000系列管線膠體磨機比較在相同的馬達情況下，轉速有明顯優(yōu)勢，CMS2000轉速可以達到14000RPM，可以在更短的惡時間內處理更多符合要求的物料，能夠為大批量生產(chǎn)的企業(yè)實現(xiàn)生產(chǎn)過程的成本降低。

當用我們的設備好處是什么？效果好（研磨效果、均質效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一臺設備都具有多功能改裝，根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么？？？那就是能耗低，據(jù)用過依肯的設備客戶反應，就電費就能省下不少。如何去選擇一臺合適的設備，一定會做一個明智的選擇！