環(huán)保型催化劑膠體磨，環(huán)保型催化劑改進型膠體磨 ，催化劑膠體磨，HSBS 催化劑膠體磨 ，汽車尾氣催化劑膠體磨，金屬氧化物催化劑，氧化鐵漿料催化劑 是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

如一般的而工藝

浸漬漿液中含有金屬氧化物、脫鹽水和膠液，在進入下一段工序之前，需使浸漬漿液中的金屬氧化物和膠液形成的混合物顆粒粒徑達到要求，分布均勻，而上工序攪拌時會產(chǎn)生結(jié)塊現(xiàn)象，膠體磨的主要目的是將浸漬漿液中混合物結(jié)塊經(jīng)過研磨，使得浸漬漿液中比較大的顆粒被研磨打碎成顆粒分布均勻的小顆粒，然后通過后續(xù)噴霧干燥工段，以得到粒度大小合格、分布均勻的產(chǎn)品。膠體磨的安裝位置在浸漬漿液儲槽入口的管線上。

膠體磨連續(xù)操作。

其中經(jīng)過研磨，使得浸漬漿液中比較大的顆粒被研磨打碎成顆粒分布均勻的小顆粒，然后通過后續(xù)噴霧干燥工段，以得到粒度大小合格、分布均勻的產(chǎn)品

要求顆粒有大小

 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 

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粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。

目前XX市場上大多數(shù)的濕法粉碎機廠家生產(chǎn)出來的濕法粉碎機轉(zhuǎn)速只能達到3000rpm左右，的  當然我所說的XX濕法粉碎機機的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機或者分體式 ，粉碎機的主軸和電機直連，電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速。

IKN分體式濕法粉碎機機通過皮帶傳送，可實現(xiàn)2到3倍的加速，同時立式直立的轉(zhuǎn)軸，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高，同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式濕法粉碎機機有XX的乳化分散粉碎效果。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理，還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎，超細物料的均勻分散，以及加速大分子物質(zhì)的溶解。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切膠體磨 也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場所，比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒，通過分別通入腔體，兩種物料接觸時被剪切成微滴，均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。

 

IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果

 

目前XX市場上大多數(shù)的膠體磨廠家生產(chǎn)出來的膠體磨轉(zhuǎn)速只能達到3000rpm左右，的  當然我所說的XX膠體磨機的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機或者分體式 ，膠體磨的主軸和電機直連，電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速。

IKN分體式膠體磨機通過皮帶傳送，可實現(xiàn)2到3倍的加速，同時立式直立的轉(zhuǎn)軸，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高，同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式膠體磨機有XX的乳化分散粉碎效果。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理，還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎，超細物料的均勻分散，以及加速大分子物質(zhì)的溶解。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切膠體磨 也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場所，比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒，通過分別通入腔體，兩種物料接觸時被剪切成微滴，均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。

 

IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果

 

為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下，我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點，也應(yīng)該是廣大客戶在選型時應(yīng)該重視的幾個方面
環(huán)保型催化劑膠體磨，環(huán)保型催化劑改進型膠體磨 ，催化劑膠體磨，HSBS 催化劑膠體磨 ，汽車尾氣催化劑膠體磨，金屬氧化物催化劑，氧化鐵漿料催化劑

的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域： 化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。           食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉 ，豆粕酶解等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。 醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。 建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

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