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石墨烯剝離方法及剝離得到的高質量剝層材料
詳細信息| 詢價留言型號:CMSD2000 品牌:IKN 工作方式:顆粒研磨機 適用物料:石墨烯 應用領域:化工 加工批量:0-3000 驅動功率:2.2-37 kw 研磨籃容量:10000 介質尺寸:100 行程:100 外形尺寸:1X1X2 m 重量:200 kg 驅動方式:電動 作用對象:鋸刀 重量:200 kg
目前石墨烯的制備方法有機械剝離法、晶體外延法、化學氣相沉積法、 特定活性劑的石墨插層剝離法以及氧化石墨烯的高溫和化學還原法。機械剝離法雖然能得 到質量非常高且單層石墨烯,但是這種方法僅限于理論研宄,不適合大規(guī)模應用制備。氣相 沉積法雖然能制備結構完整石墨烯,但產(chǎn)量太低,而且成本較高。目前使用*廣泛的一種方 法是氧化還原法。氧化還原法的過程主要是:先對天然石墨進行氧化得到氧化石墨,由于片 層間引入大量含氧基團,通過簡單分散可獲得氧化石墨烯,再經(jīng)過高溫還原或化學還原得 到還原的石墨烯。這種方法雖然有利于實現(xiàn)量產(chǎn)制備石墨烯,但是這種方法由于氧化過程 對石墨烯結構破壞程度大,在很大程度上影響了其導電性能,從而限制了其在較多方面尤 其是在導電材料的應用。
還有通過先將石墨采用強酸等插層劑進行插層處理制備得到插層石墨,亦即 可膨脹石墨,然后對可膨脹石墨進行微波或高溫熱處理后發(fā)生膨脹形成膨脹蠕蟲結構,再 進行剝離得到石墨烯。但是這種過程所使用原料亦采用了酸性物質對石墨片層之間通過化 學反應進行了插層處理,對其原始結構仍會造成一定程度的破壞,從而影響*終所得石墨 烯的性能。
一種物理膨脹剝離層 f材料的方法及剝離得到的高質量剝層材料。插層劑和活化劑等原 料與層狀材料均未發(fā)生化學作用,主要是通過強的物理沖擊作用克服范德華力實現(xiàn)層狀材 料的膨脹剝離,制備得到的剝層材料的層數(shù)少且且質量高。
工藝步驟
1 將層狀材料和插層劑混合,實現(xiàn)插層劑對層狀材料的浸潤;
2向步驟(1)混合得到的混合液中加入活化劑,使所述活化劑與所述插層劑發(fā)生反 應,反應產(chǎn)生的氣流對所述層狀材料的物理沖擊作用使層狀材料的片層發(fā)生剝離,得到剝 層材料前驅體的分散液;
(3) 將步驟(2)得到的剝層材料前驅體的分散液與分散介質混合,對得到的分散體系進 行物理打散,得到剝層材料的分散液。
有點
層劑和活化劑之間劇烈反應產(chǎn)生的氣流沖擊克服片層間的作用力,實 現(xiàn)膨脹剝離,此通過沖擊使片層膨脹剝離的過程是物理過程,因而對原始層狀材料的結構 破壞非常小,剝_制備得到的剝層材料質量非常高。
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研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機應用領域:
化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素,石墨烯,碳納米管,富勒烯,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。
食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,食用菌絲,蛋白粉 ,豆粕酶解等
日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,口服混懸液,注射混懸液 ,膠囊,微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋,硫酸頭孢喹肟 等。
建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
新能源材料:石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMSD 2000/4
300
14,000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10,500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7,200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4,900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2,850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1,100
41
160
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
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