超微細(xì)無機(jī)新材料氣相二氧化硅分散難點(diǎn)，沉淀法二氧化硅分散混合機(jī)，分散設(shè)備工作原理，二氧化硅粉液混合機(jī)                 
  【二氧化硅的重要用途】：   二氧化硅的用途很廣。自然界里比較稀少的水晶可用以電子工業(yè)電子的重要部件、光學(xué)儀器和工藝品。   氣相法二氧化硅是極其重要的高科技超微細(xì)無機(jī)新材料之一，由于其粒徑很小，因此比表面積大，表面吸附力強(qiáng)，表面能大，化學(xué)純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能，以其優(yōu)越的穩(wěn)定性、補(bǔ)強(qiáng)性、增稠性和觸變性，在眾多學(xué)科及領(lǐng)域內(nèi)獨(dú)具特性，有著不可取代的作用。氣相二氧化硅質(zhì)量小,很輕,極易飛揚(yáng),廣泛應(yīng)用于化妝品等行業(yè)。通常用作補(bǔ)強(qiáng)劑,穩(wěn)定劑或粘度調(diào)節(jié)劑。 

 二氧化硅的分散難點(diǎn) 

二氧化硅加工的難點(diǎn)在于濕化并達(dá)到相應(yīng)的粘度。而且和水（溶劑）混合后容易團(tuán)聚，IKN在這個(gè)行業(yè)擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),能夠滿足不同客戶的要求。

 IKN混合設(shè)備在二氧化硅的分散中的優(yōu)勢(shì)

①消除粉塵。IKN為氣相二氧化硅與水的混合,設(shè)計(jì)多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入,或者可以跟您的工程師一起特殊定制工藝。

②改善容器清潔問題。使用IKN在線粉體液體混合系統(tǒng),能夠消除容器壁的物料殘留,改善清潔,并減少原材料浪費(fèi)。

③化成分功能。很多公司在濕化二氧化硅工藝上都遇到困難,通常需要足夠的剪切力來達(dá)到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機(jī),為二氧化硅濕化混合提供足夠的剪切力。

氣相二氧化硅分散難點(diǎn)，沉淀法二氧化硅分散混合機(jī)，分散設(shè)備工作原理，二氧化硅粉液混合機(jī)

面對(duì)粉末難易團(tuán)聚，難以分散，粉塵飛揚(yáng)的粉體處理工藝中***常見的問題，IKN依肯研發(fā)了PLD2000系列產(chǎn)品，專門用于解決粉液在線混合分散的問題

PLD2000設(shè)備的特殊結(jié)構(gòu)和工作原理：裝備了一個(gè)特別設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)子，一個(gè)入口進(jìn)液體，一個(gè)入口進(jìn)粉體，使兩相在瞬間接觸時(shí)就能及時(shí)的將粉體打散。機(jī)器可以循環(huán)操作直到所有粉末加入完畢，然后密封加料入口，在腔體中繼續(xù)分散混合。根據(jù)產(chǎn)品要求，粉末的性狀，添加量可達(dá)80%。另外，如果粘度過高，也可在入口前加一臺(tái)泵。

IKN在線粉液混合機(jī)可以快速地將不同種類的粉末和顆粒不結(jié)塊地進(jìn)行潤(rùn)濕和分散在液體中。

IKN  PLD 2000的優(yōu)點(diǎn)：

1高效的吸入系統(tǒng)，吞吐量大

2簡(jiǎn)單而堅(jiān)穩(wěn)的設(shè)計(jì)

3自動(dòng)調(diào)節(jié)固體和液體的供應(yīng)

4無需額外的配料裝置

5封閉系統(tǒng)，防止灰塵和溶劑的排放

6潤(rùn)濕顆粒，從而防止結(jié)塊的形成

7拆包卸料，不損失原料

8大大縮短生產(chǎn)時(shí)間

9通過更有效地碎裂原料，減少原料的添加

10緊湊的生產(chǎn)方法

11 開發(fā)了易于升級(jí)的過程，將實(shí)驗(yàn)室機(jī)器PLD用于生產(chǎn)機(jī)器PLD

12 機(jī)器可自動(dòng)排水，具有CIP 清洗 和SIP功能

13 所有接觸液體的部件為316L或316 Ti不銹鋼

14完全自動(dòng)化

15符合3A衛(wèi)生和認(rèn)證

16根據(jù)需要提供醫(yī)藥級(jí)別設(shè)備

IKN工程師和應(yīng)用專家可協(xié)您解決關(guān)于機(jī)器PLD安裝到您現(xiàn)有的工藝系統(tǒng)中或關(guān)于拓寬整套新型生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)范圍的問題。

氣相二氧化硅分散難點(diǎn)，沉淀法二氧化硅分散混合機(jī)，分散設(shè)備工作原理，二氧化硅粉液混合機(jī)