分散用研磨新工藝改進(jìn)型硫酸鋇溶液連續(xù)粉碎機(jī)適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末，密度4.25-4.5，分解溫度＞1600℃。溶于熱濃硫酸，幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對(duì)石蕊試紙呈中性。

　　對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn)，目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn)，由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn)，生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右，而且生產(chǎn)效果很低，需要研磨5-6小時(shí)。而使用IKN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理，研磨兩遍，粒徑可以細(xì)化到5μm，效果好，效率高。

改進(jìn)型硫酸鋇膠體磨，硫酸鋇研磨機(jī)，硫酸鋇溶液研磨膠體磨，碳酸鈣高速研磨分散機(jī)，化工固液混合研磨機(jī)由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，可將電機(jī)能量更有效地轉(zhuǎn)化為尺寸減小力，從而在粉末研磨和精細(xì)化學(xué)粉碎方面ling先于其他同行業(yè)設(shè)備。被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

　　改進(jìn)型硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

　�、�   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

　　②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

　�、�   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

　　④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

　�、�   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

當(dāng)所處理的物料要達(dá)到非常細(xì)，分散程度高的時(shí)候，對(duì)于設(shè)備的要求就會(huì)非常的高。而從設(shè)備角度來考慮的話，能夠達(dá)到超細(xì)的效果，要具備以下條件：
 

1、XX的剪切力，CMSD2000系列研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度為44m/s，是普通設(shè)備的4-5倍。

2、高經(jīng)密度的定轉(zhuǎn)子，超細(xì)研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子分為兩級(jí)，一級(jí)為膠體磨磨頭，采用三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學(xué)的設(shè)計(jì)。第二級(jí)是分散頭，IKN分散頭有六種不同的規(guī)格，從粗到細(xì)，越來越密，分散效果佳。

3、機(jī)械密封，超細(xì)的效果取決于高的轉(zhuǎn)速，而轉(zhuǎn)速越高機(jī)械密封的發(fā)熱量就會(huì)越大，設(shè)備的機(jī)械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速，國nei大多數(shù)廠家的機(jī)械密封是wu法承受的，上海依肯CMSD系列采用的是德國雙端面集裝箱式機(jī)械密封。當(dāng)有持續(xù)的冷凍水提供給機(jī)械密封時(shí)，設(shè)備可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)。

CMSD 2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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