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    德國IKN脾氨肽凍干粉打漿勻漿膠體磨機CMSD2000

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺
      ¥238500.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-31
    詳細信息
     品牌:德國IKN  型號:CMSD2000  工作方式:醫(yī)藥膠體磨  
     類型:圓盤式研磨機  適用物料:混懸液  應(yīng)用領(lǐng)域:漿料  
     加工批量:100  驅(qū)動功率:11 kw 研磨籃容量:1 L 
     介質(zhì)尺寸:12 mm 行程:12 mm 外形尺寸:1-1-1 m 
     重量:260  行程:12 mm 外形尺寸:1-1-1 m 

    脾氨肽凍干粉打漿勻漿膠體磨機的主要成份來自新鮮哺乳動物脾臟中提取的多肽及核苷酸類物質(zhì),其主要 用于治療細胞免疫功能低下、免疫缺陷和自身免疫功能紊亂性疾病(反復(fù)呼吸道感染、支氣 管炎、肺炎、哮喘、重癥帶狀皰瘆及牛皮癬等);用于惡性腫瘤病人放、化療及術(shù)后生活質(zhì)量, 降低各種原因引起的感冒、發(fā)燒或其它感染發(fā)生率。
     

    現(xiàn)有的脾氨肽提取方法通常為先將動物脾臟清洗絞碎、勻漿,然后通過透析或超 濾的方法提取脾氨肽有效組分,這種方法的缺點是提取率低,產(chǎn)品純度低,因為有害的大分 子和小分子不能有效去除,同時這種方法細胞破碎不完全,有效成分不能完全釋放。

    上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤?筛鶕(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

     

    CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

     

    CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

    研磨分散機的特點:

    1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

     

    2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

     

    CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
     

    型號

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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