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    依肯(IKN)無機(jī)材料片狀氧化鋁膠體磨研磨機(jī)在催化劑電子材料中的應(yīng)用CMSD2000

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: 依肯(IKN)
    • ≧1 臺(tái)
      ¥238900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     品牌:依肯(IKN)  型號(hào):CMSD2000  加工定制:是  
     適用物料:混懸液  應(yīng)用領(lǐng)域:化工新材料  研磨籃容量:1 L 
     介質(zhì)尺寸:1  外形尺寸:1  研磨籃容量:1 L 
    片狀氧化鋁是一種重要的無機(jī)材料,具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域本文將介紹片狀氧化鋁的物理化學(xué)性質(zhì)及其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。
     

    研磨分散機(jī)工作原理:研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的gao旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


    1.片狀氧化鋁的物理化學(xué)性質(zhì)片狀氧化鋁是一種白色無定形固體,其化學(xué)式為A1203。它具有高的熔點(diǎn)(2050C)和硬度,該物性使得其在高溫和高壓的條件下具有良好的穩(wěn)定性。此外,片狀氧化鋁具有良好的導(dǎo)電性和熱傳導(dǎo)性能。
    2.片狀氧化鋁在催化領(lǐng)域的應(yīng)用片狀氧化鋁在催化劑領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其高的比表面積和多孔結(jié)構(gòu)使得其成為優(yōu)秀的催化劑載體。例如,將活性金屬以納米粒子的形式載到片狀氧化鋁上,可以提高金屬的分散度和活性,從而增加催化劑的效率。片狀氧化鋁還可以用于制備各種催化劑,如鉑、鉅鉅等金屬的載體。此外,片狀氧化鋁還可以用于制備沸石、分子篩等催化劑的助劑,通過調(diào)節(jié)催化劑的酸堿性質(zhì)來優(yōu)化反應(yīng)條件。
    3.片狀氧化鋁在電子材料中的應(yīng)用片狀氧化鋁在電子材小牛臺(tái)CFNO氧化鋁可以作為電子元件的絕緣層和導(dǎo)熱層。例如,將片狀氧化鋁薄膜用作集成電路的介質(zhì)層,可以提高電路的穩(wěn)定性和可靠性。此外,將片狀氧化鋁與其他材料結(jié)合使用,可以制備出具有優(yōu)異性能的電容器、電阻器等電子元件。
    4.片狀氧化鋁在陶瓷工業(yè)中的應(yīng)用片狀氧化鋁在陶瓷工業(yè)中也有廣泛的應(yīng)用。由于其高的熔點(diǎn)和硬度,片狀氧化鋁可以用于制備高溫耐磨陶瓷材料。例如,將片狀氧化鋁與氮化硅等材料復(fù)合使用,可以制備出高硬度、高強(qiáng)度的陶瓷刀具、陶瓷軸承等產(chǎn)品。此外,片狀氧化鋁還可以用于制備陶瓷砂輪、陶瓷粘結(jié)劑等陶瓷磨具。
    5.片狀氧化鋁在涂料和填料中的應(yīng)用片狀氧化鋁還可以用作涂料和填料的添加劑。由于其高的比表面積和特殊的表面活性,片狀氧化鋁可以提高涂料的抗老化、耐腐蝕等性能。在填料方面,片狀氧化鋁可以增加填料的硬度和強(qiáng)度,提高填料的填充性和涂覆性能
    綜上所述,片狀氧化鋁作為一種重要的無機(jī)材料,在催化、電子、陶瓷和涂料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,片狀氧化鋁的應(yīng)用前景將更加廣闊。
     

    研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高*技產(chǎn)品。 

    第*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    er級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,te要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征dou改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出#終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    30

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)yi提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
    5 本系列機(jī)型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí),須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。
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