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氫氧化鋁阻燃劑生產(chǎn)設(shè)備
詳細(xì)信息| 詢價留言型號:CMD2000 品牌:依肯 工作方式:高速萬能研磨機 適用物料:化工 化妝品 食品 藥品 應(yīng)用領(lǐng)域:化工 化妝品 食品 藥品 加工批量:0-10000 驅(qū)動功率:2.2-110 kw 重量:55 kg 驅(qū)動方式:電機 作用對象:銑刀 重量:55 kg 驅(qū)動方式:電機 氫氧化鋁阻燃劑生產(chǎn)設(shè)備 氫氧化鋁阻燃劑分散機,氫氧化鋁漿料分散機,阻燃劑分散機,氫氧化鋁研磨分散機,ATH阻燃劑分散機,氫氧化鋁阻燃劑漿料生產(chǎn)設(shè)備,氫氧化鋁阻燃劑生產(chǎn)設(shè)備,氫氧化鋁阻燃劑研磨分散機,阻燃劑漿料生產(chǎn)設(shè)備,進口納米研磨分散機設(shè)備,阻燃劑漿料研磨分散機上海IKN分散設(shè)備,膠體磨+分散機的獨特設(shè)計,處理物料粒徑更小,分散更均勻。
氫氧化鋁作為阻燃劑具有許多獨特的優(yōu)點,且來源豐富,價格低廉,應(yīng)用范圍廣,品種多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不對聚合物起增強作用、分解溫度低、不適于加工高于200℃的塑料制品的缺點,因此研究其粒度超細(xì)化、表面改性處理技術(shù)、協(xié)同復(fù)合技術(shù)、納米技術(shù)正成為世界各國研究者的熱點問題。
氫氧化鋁的超微細(xì)化增加了氫氧化鋁的表面積,使粒子表面蒸氣壓降低,明顯增強阻燃效果,同時提高材料制品的力學(xué)性能和耐熱性能。
然而,要獲得超細(xì)的氫氧化鋁助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備,傳統(tǒng)的分散設(shè)備,一方面無法將氫氧化鋁漿料進一步細(xì)化,另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家,可知,采用IKNCMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鋁漿料進行進一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。
如有疑問請致電IKN銷售工程師,IKN全體員工將竭誠為您服務(wù)! IKN主 聶倩文 QQ ---
IKN研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,先研磨后分散機,因為氫氧化鋁分散到水中或者溶劑當(dāng)中,會形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。IKN研磨分散機二級工作組,轉(zhuǎn)速高達14000rpm,剪切力強,分散更徹底。
CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMSD2000系列研磨分散機的特點:① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
1000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
3000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
8000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
20000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
60000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
納米材料研磨分散機,德國納米材料研磨分散機
設(shè)備特點
⑴CMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比:
高效、節(jié)能
傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程,CMD設(shè)備1小時左右完成,超細(xì)分散效果顯著,能耗*降低;
高速、高品質(zhì)
傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。
⑵CMD設(shè)備與同類設(shè)備相比:
多層多向剪切分散
同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象;
CMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為徹底。
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