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    硫酸鋇溶液研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): CMD2000/4
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥189000.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-29
    詳細(xì)信息
     品牌:IKN  適用物料:藥物  進(jìn)料粒度≤:150 mm 
     出料粒度:2 mm 型號(hào):CMD2000/4  應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥  
     生產(chǎn)能力:300-60000 kg/h 主軸轉(zhuǎn)速:9000-1100 r/min 電機(jī)功率:2.2-110 KW 
     外形尺寸:450*350*750 m 重量:1150 kg 粉碎程度:細(xì)磨機(jī)  

    硫酸鋇溶液研磨分散機(jī),硫酸鋇溶液膠體磨,硫酸鋇溶液研磨機(jī),硫酸鋇研磨分散機(jī)

          硫酸鋇,適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末,密度4.25-4.5,分解溫度>1600℃。溶于熱濃硫酸,幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對(duì)石蕊試紙呈中性。
        對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒   徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用IKN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

         研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于單臺(tái)膠體磨處理的效果,研磨分散機(jī)是一臺(tái)目前型的研磨分散設(shè)備

          硫酸鋇CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

              

     

    硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

    ①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

    ③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    ⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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